Design protection law searches for the right pattern : for US fashion industry

Design protection law searches for the right pattern : for US fashion industry

Article

Stein, Mitchell C. ; Student, Michael J. ; Lederman, Natalie S.

Published in: IPR info 2012 : 3, s. 22-23

Saved in:

Language

English

Series

Mallit

Classification

udkx 347.77/.78

Subjects/keywords

vaatesuunnittelu

muotiala

muotitalot

mallioikeus

immateriaalioikeus

kläddesign

modebranschen

modehus

mönsterrätt

immaterialrätt

Yhdysvallat

Förenta staterna

Additional Information

Mitchell C. Stein, Michael J. Student, Natalie S. Lederman